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等离子体处理装置和等离子体处理方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202111030176.8
申请日
:
2021-09-03
公开(公告)号
:
CN114188208A
公开(公告)日
:
2022-03-15
发明(设计)人
:
竹内贵广
小林宪
申请人
:
申请人地址
:
日本东京都
IPC主分类号
:
H01J3732
IPC分类号
:
代理机构
:
北京尚诚知识产权代理有限公司 11322
代理人
:
龙淳;徐飞跃
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-03-15
公开
公开
共 50 条
[1]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
藤原直树
论文数:
0
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0
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0
藤原直树
;
大秦充敬
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大秦充敬
;
竹内贵广
论文数:
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竹内贵广
.
中国专利
:CN114121589A
,2022-03-01
[2]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
竹内贵广
论文数:
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0
竹内贵广
;
小林宪
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0
小林宪
.
中国专利
:CN114188209A
,2022-03-15
[3]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
金子和史
论文数:
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0
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0
金子和史
.
中国专利
:CN114302547A
,2022-04-08
[4]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
舆水地盐
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
舆水地盐
.
日本专利
:CN117480870B
,2024-06-28
[5]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
田井将纪
论文数:
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
田井将纪
.
日本专利
:CN120036053A
,2025-05-23
[6]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
竹内贵广
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
竹内贵广
;
高桥正彦
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
高桥正彦
;
小林宪
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
小林宪
.
日本专利
:CN117397014A
,2024-01-12
[7]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
丸山幸儿
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丸山幸儿
;
堀口将人
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堀口将人
;
松木哲理
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松木哲理
;
舆石公
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舆石公
.
中国专利
:CN105379428B
,2016-03-02
[8]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
进藤崇央
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进藤崇央
;
冈本清一
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冈本清一
;
大友洋
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大友洋
;
菊地贵伦
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菊地贵伦
;
松土龙夫
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松土龙夫
;
森田靖
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森田靖
;
佐久间隆
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佐久间隆
.
中国专利
:CN113936985A
,2022-01-14
[9]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
上坂友佑人
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
上坂友佑人
;
斋野高遥
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
斋野高遥
.
日本专利
:CN119404600A
,2025-02-07
[10]
等离子体处理装置和等离子体处理方法
[P].
进藤崇央
论文数:
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
进藤崇央
;
冈本清一
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
冈本清一
;
大友洋
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
大友洋
;
菊地贵伦
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
菊地贵伦
;
松土龙夫
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
松土龙夫
;
森田靖
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
森田靖
;
佐久间隆
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
佐久间隆
.
日本专利
:CN113936985B
,2025-03-11
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