等离子体处理装置和等离子体处理方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202080020699.1

申请日：

2020-03-13

公开(公告)号：

CN113557797A

公开(公告)日：

2021-10-26

发明(设计)人：

加贺谷宗仁川上聪守屋刚松土龙夫山涌纯小野田裕之

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H05H146

IPC分类号：

H01L213065 H01L2131 C23C16505

代理机构：

北京尚诚知识产权代理有限公司 11322

代理人：

龙淳;刘芃茜

法律状态：

公开

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-10-26	公开	公开
2021-11-12	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H05H 1/46 申请日:20200313

共 50 条

[1]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

加贺谷宗仁 ;

川上聪 ;

守屋刚 ;

松土龙夫 ;

山涌纯 ;

小野田裕之 .

日本专利 :CN113557797B ,2024-07-12

[2]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

金子和史 .

中国专利 :CN114302547A ,2022-04-08

[3]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

西野雅 ;

真壁正嗣 ;

长山将之 ;

半田达也 ;

绿川良太郎 ;

小林启悟 ;

仁矢铁也 .

中国专利 :CN103959447A ,2014-07-30

[4]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

松浦广行 .

中国专利 :CN110544613A ,2019-12-06

[5]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

进藤崇央 ;

冈本清一 ;

大友洋 ;

菊地贵伦 ;

松土龙夫 ;

森田靖 ;

佐久间隆 .

中国专利 :CN113936985A ,2022-01-14

[6]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

久保田绅治 .

中国专利 :CN110323121A ,2019-10-11

[7]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

进藤崇央 ;

冈本清一 ;

大友洋 ;

菊地贵伦 ;

松土龙夫 ;

森田靖 ;

佐久间隆 .

日本专利 :CN113936985B ,2025-03-11

[8]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

久保田绅治 .

中国专利 :CN107535043B ,2018-01-02

[9]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

齐藤均 ;

佐佐木和男 ;

植松治志 .

日本专利 :CN116110770B ,2025-06-13

[10]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

吹野康彦 ;

丸山智久 .

中国专利 :CN103839748A ,2014-06-04

← 1 2 3 4 5 →