等离子体处理装置和等离子体处理方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201680026715.1

申请日：

2016-05-10

公开(公告)号：

CN107535043B

公开(公告)日：

2018-01-02

发明(设计)人：

久保田绅治

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H05H146

IPC分类号：

C23C16511 H01L213065 H01L2131

代理机构：

北京尚诚知识产权代理有限公司 11322

代理人：

龙淳

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-09-03	授权	授权
2018-01-26	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H05H 1/46 申请日:20160510
2018-01-02	公开	公开

共 50 条

[1]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

西野雅 ;

真壁正嗣 ;

长山将之 ;

半田达也 ;

绿川良太郎 ;

小林启悟 ;

仁矢铁也 .

中国专利 :CN103959447A ,2014-07-30

[2]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

松浦广行 .

中国专利 :CN110544613A ,2019-12-06

[3]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

久保田绅治 .

中国专利 :CN110323121A ,2019-10-11

[4]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

加贺谷宗仁 ;

川上聪 ;

守屋刚 ;

松土龙夫 ;

山涌纯 ;

小野田裕之 .

日本专利 :CN113557797B ,2024-07-12

[5]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

田吹圭司 ;

户根川大和 ;

五十岚一将 ;

矢部和雄 .

中国专利 :CN113921361A ,2022-01-11

[6]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

松浦广行 .

日本专利 :CN112786425B ,2024-09-20

[7]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

松浦广行 .

中国专利 :CN112786425A ,2021-05-11

[8]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

加贺谷宗仁 ;

川上聪 ;

守屋刚 ;

松土龙夫 ;

山涌纯 ;

小野田裕之 .

中国专利 :CN113557797A ,2021-10-26

[9]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

舆水地盐 ;

山泽阳平 .

中国专利 :CN102522304A ,2012-06-27

[10]

等离子体处理装置和等离子体处理方法 [P].

东条利洋 ;

藤井祐希 .

中国专利 :CN107275179A ,2017-10-20

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