用于在EUV源中产生目标材料微滴的装置和方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202280040537.3

申请日：

2022-06-02

公开(公告)号：

CN117441411A

公开(公告)日：

2024-01-23

发明(设计)人：

A·I·厄肖夫 T·W·德赖森 D·U·H·特雷斯 V·G·特尔卡

申请人：

ASML荷兰有限公司

申请人地址：

荷兰维德霍温

IPC主分类号：

H05G2/00

IPC分类号：

代理机构：

北京市金杜律师事务所 11256

代理人：

杨飞

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-06-28	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):H05G 2/00申请日:20220602
2024-01-23	公开	公开

共 50 条

[1]

用于产生微滴的装置和方法 [P].

N·索里克 ;

M·哈甘德尔 ;

A·奥夫纳 .

中国专利 :CN114269462A ,2022-04-01

[2]

用于产生微滴的装置和方法 [P].

N·索里克 ;

M·哈甘德尔 ;

A·奥夫纳 .

:CN114269462B ,2024-12-17

[3]

用于在软组织中产生通道的装置和方法 [P].

吉拉德·拉维 ;

约瑟夫·格罗文斯基 ;

瓦迪姆·施穆克勒 ;

尼尔·伊兹雷利 .

中国专利 :CN110461283B ,2019-11-15

[4]

在透明材料中产生弯曲切口的装置和方法 [P].

德克·米尔霍夫 ;

马里奥·格拉赫 ;

马库斯·施蒂克 ;

卡斯滕·朗 ;

马克·比朔夫 ;

迈克尔·贝尔格特 .

中国专利 :CN1829488A ,2006-09-06

[5]

用于在EUV光源中减少来自源材料的污染的装置和方法 [P].

D·拉贝斯基 ;

A·D·拉弗格 ;

马悦 .

:CN113039868B ,2024-11-05

[6]

用于在EUV光源中减少来自源材料的污染的装置和方法 [P].

D·拉贝斯基 ;

A·D·拉弗格 ;

马悦 .

中国专利 :CN113039868A ,2021-06-25

[7]

靶材料、高亮度EUV源和产生EUV辐射的方法 [P].

德米特里·伊戈列维奇·阿斯塔霍夫 ;

萨米尔·埃尔维 ;

丹尼斯·亚历山大罗维奇·格鲁什科夫 ;

弗拉基米尔·维塔列维奇·伊万诺夫 ;

奥列格·鲍里索维奇·赫里斯托福罗夫 ;

康斯坦丁·尼古拉耶维奇·科谢列夫 ;

米哈伊尔·谢尔盖耶维奇·克里沃科里托夫 ;

弗拉基米尔·米哈伊洛维奇·克里夫松 ;

亚历山大·安德烈耶维奇·拉什 ;

维亚切斯拉夫·瓦列里耶维奇·梅德韦杰夫 ;

亚历山大·尤里耶维奇·维诺霍多夫 .

:CN118435705A ,2024-08-02

[8]

在微流体装置中产生热熔化曲线的方法和设备 [P].

S·A·桑德伯格 ;

M·R·纳普 ;

I·T·奈特 ;

D·J·伯勒斯 ;

A·鲁里森 ;

W·B·董 ;

A·法班斯 ;

A·博兰凯 ;

E·多隆 ;

R·莫逖 ;

M·斯拉特 .

中国专利 :CN101426933A ,2009-05-06

[9]

在微流体装置中产生热熔化曲线的方法和设备 [P].

S·A·桑德伯格 ;

M·R·纳普 ;

I·T·奈特 ;

D·J·伯勒斯 ;

A·鲁里森 ;

W·B·董 ;

A·法班斯 ;

A·博兰凯 ;

E·多隆 ;

R·莫逖 ;

M·斯拉特 .

中国专利 :CN105586403A ,2016-05-18

[10]

在目标基因组序列中产生新型序列的装置和方法 [P].

洪侑辰 ;

李勇锡 ;

申守容 .

中国专利 :CN103087906A ,2013-05-08

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