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一种去离子水制造机
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN202320428886.4
申请日
:
2023-03-09
公开(公告)号
:
CN220412906U
公开(公告)日
:
2024-01-30
发明(设计)人
:
王继刚
申请人
:
苏州威立特环保科技有限公司
申请人地址
:
215000 江苏省苏州市吴中区木渎镇长江路9号6幢402室
IPC主分类号
:
C02F1/00
IPC分类号
:
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
授权
国省代码
:
江苏省 苏州市
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-01-30
授权
授权
共 50 条
[1]
一种去离子水制造机
[P].
郑俊祥
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0
郑俊祥
;
郑志炫
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郑志炫
.
中国专利
:CN206359282U
,2017-07-28
[2]
去离子水冲洗机
[P].
周聪
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周聪
;
赵敏
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赵敏
.
中国专利
:CN204018331U
,2014-12-17
[3]
去离子水制造系统的运转方法以及去离子水制造系统
[P].
佐佐木庆介
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机构:
奥加诺株式会社
奥加诺株式会社
佐佐木庆介
;
阿部真弓
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机构:
奥加诺株式会社
奥加诺株式会社
阿部真弓
;
永山敦史
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机构:
奥加诺株式会社
奥加诺株式会社
永山敦史
;
栉田祥吾
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机构:
奥加诺株式会社
奥加诺株式会社
栉田祥吾
.
日本专利
:CN119053558A
,2024-11-29
[4]
去离子水制造系统的运行方法以及去离子水制造系统
[P].
佐佐木庆介
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机构:
奥加诺株式会社
奥加诺株式会社
佐佐木庆介
;
阿部真弓
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机构:
奥加诺株式会社
奥加诺株式会社
阿部真弓
;
永山敦史
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机构:
奥加诺株式会社
奥加诺株式会社
永山敦史
;
栉田祥吾
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机构:
奥加诺株式会社
奥加诺株式会社
栉田祥吾
;
成田裕树
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机构:
奥加诺株式会社
奥加诺株式会社
成田裕树
;
须藤史生
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机构:
奥加诺株式会社
奥加诺株式会社
须藤史生
.
日本专利
:CN121152772A
,2025-12-16
[5]
去离子水制造系统、电去离子装置、以及制造去离子水的方法
[P].
合庭健太
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合庭健太
;
佐佐木庆介
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0
佐佐木庆介
;
日高真生
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0
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0
日高真生
.
中国专利
:CN109843812A
,2019-06-04
[6]
一种去离子水设备
[P].
包炳兴
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包炳兴
.
中国专利
:CN212403749U
,2021-01-26
[7]
一种去离子水装置
[P].
杜东清
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杜东清
;
曹军
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曹军
.
中国专利
:CN205773827U
,2016-12-07
[8]
一种去离子水设备
[P].
王新亮
论文数:
0
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0
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0
王新亮
.
中国专利
:CN211226662U
,2020-08-11
[9]
一种去离子水设备
[P].
陈渤韦
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机构:
海南纯而净环保科技有限公司
海南纯而净环保科技有限公司
陈渤韦
;
方全意
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机构:
海南纯而净环保科技有限公司
海南纯而净环保科技有限公司
方全意
;
黄国清
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机构:
海南纯而净环保科技有限公司
海南纯而净环保科技有限公司
黄国清
;
刘婷
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机构:
海南纯而净环保科技有限公司
海南纯而净环保科技有限公司
刘婷
;
郭军
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机构:
海南纯而净环保科技有限公司
海南纯而净环保科技有限公司
郭军
;
肖金安
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机构:
海南纯而净环保科技有限公司
海南纯而净环保科技有限公司
肖金安
.
中国专利
:CN223134295U
,2025-07-22
[10]
一种去离子水设备
[P].
韩善国
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韩善国
;
韩震
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韩震
.
中国专利
:CN213171815U
,2021-05-11
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