去离子水制造系统的运转方法以及去离子水制造系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202380033237.7

申请日：

2023-03-13

公开(公告)号：

CN119053558A

公开(公告)日：

2024-11-29

发明(设计)人：

佐佐木庆介阿部真弓永山敦史栉田祥吾

申请人：

奥加诺株式会社

申请人地址：

日本国东京都

IPC主分类号：

C02F1/469

IPC分类号：

B01D61/02 B01D61/48 B01D61/54 B01D61/58 C02F1/42

代理机构：

北京汇思诚业知识产权代理有限公司 11444

代理人：

张黎;王刚

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-12-17	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):C02F 1/469申请日:20230313
2024-11-29	公开	公开

共 50 条

[1]

去离子水制造系统的运行方法以及去离子水制造系统 [P].

佐佐木庆介 ;

阿部真弓 ;

永山敦史 ;

栉田祥吾 ;

成田裕树 ;

须藤史生 .

日本专利 :CN121152772A ,2025-12-16

[2]

去离子水制造系统、电去离子装置、以及制造去离子水的方法 [P].

合庭健太 ;

佐佐木庆介 ;

日高真生 .

中国专利 :CN109843812A ,2019-06-04

[3]

电去离子水制造装置及其运转方法 [P].

阿部真弓 ;

佐佐木庆介 ;

中村友绮 .

日本专利 :CN119317605A ,2025-01-14

[4]

电去离子水制造装置及纯水制造方法 [P].

星野友里 ;

佐佐木庆介 .

日本专利 :CN119212954A ,2024-12-27

[5]

去离子水绝缘电缆系统及制造方法 [P].

王振林 ;

孙慧影 .

中国专利 :CN109712746A ,2019-05-03

[6]

制造去离子水的方法和设备 [P].

寺田一郎 ;

户田洋 ;

岩元纯治郎 ;

梅村和郎 ;

小松健 ;

星徹 ;

M·P·许纳加德 ;

D·F·泰西耶 ;

I·G·托 .

中国专利 :CN1182378A ,1998-05-20

[7]

去离子水冲洗机 [P].

周聪 ;

赵敏 .

中国专利 :CN204018331U ,2014-12-17

[8]

去离子水净水设备 [P].

唐寒梅 .

中国专利 :CN221739928U ,2024-09-20

[9]

去离子水加热塔 [P].

殷根茂 .

中国专利 :CN202013114U ,2011-10-19

[10]

一种去离子水制造机 [P].

王继刚 .

中国专利 :CN220412906U ,2024-01-30

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