掩模曝光系统、掩模曝光方法和电子束校正方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202311481913.5

申请日：

2023-11-08

公开(公告)号：

CN118011739A

公开(公告)日：

2024-05-10

发明(设计)人：

裵硕钟朴强浩申文圭李明秀李昊骏

申请人：

三星电子株式会社

申请人地址：

韩国京畿道

IPC主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

代理机构：

北京市柳沈律师事务所 11105

代理人：

程丹辰

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-10-14	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/20申请日:20231108
2024-05-10	公开	公开

共 50 条

[1]

掩模系统、掩模方法、曝光系统和曝光方法 [P].

张继凯 ;

吴洪江 ;

黎敏 ;

万冀豫 ;

杨同华 ;

查长军 .

中国专利 :CN103268057A ,2013-08-28

[2]

掩模板、曝光系统和曝光方法 [P].

陈珍霞 ;

李凡 ;

姜妮 .

中国专利 :CN103034046A ,2013-04-10

[3]

无掩模曝光系统及无掩模曝光方法 [P].

请求不公布姓名 ;

请求不公布姓名 .

中国专利 :CN121028467A ,2025-11-28

[4]

电子束曝光系统 [P].

马尔科·扬-哈科·威兰 ;

波特·扬·卡姆弗彼科 ;

亚历山大·哈德瑞克·文森特·范费恩 ;

彼得·克瑞特 .

中国专利 :CN101414534B ,2009-04-22

[5]

电子束曝光系统 [P].

马尔科·扬-哈科·威兰 ;

波特·扬·卡姆弗彼科 ;

亚历山大·哈德瑞克·文森特·范费恩 ;

彼得·克瑞特 .

中国专利 :CN101414536B ,2009-04-22

[6]

电子束曝光系统 [P].

马尔科·扬－哈科·威兰 ;

波特·扬·卡姆弗彼科 ;

亚历山大·哈德瑞克·文森特·范费恩 ;

彼得·克瑞特 .

中国专利 :CN101414127A ,2009-04-22

[7]

电子束曝光系统 [P].

马尔科·扬－哈科·威兰 ;

波特·扬·卡姆弗彼科 ;

亚历山大·哈德瑞克·文森特·范费恩 ;

彼得·克瑞特 .

中国专利 :CN101414535A ,2009-04-22

[8]

电子束曝光系统 [P].

马尔科·扬－哈科·威兰 ;

波特·扬·卡姆弗彼科 ;

亚历山大·哈德瑞克·文森特·范费恩 ;

彼得·克瑞特 .

中国专利 :CN101414125A ,2009-04-22

[9]

电子束曝光系统 [P].

马尔科·扬－哈科·威兰 ;

波特·扬·卡姆弗彼科 ;

亚历山大·哈德瑞克·文森特·范费恩 ;

彼得·克瑞特 .

中国专利 :CN101414129A ,2009-04-22

[10]

电子束曝光系统 [P].

马尔科·扬－哈科·威兰 ;

波特·扬·卡姆弗彼科 ;

亚历山大·哈德瑞克·文森特·范费恩 ;

彼得·克瑞特 .

中国专利 :CN101414533A ,2009-04-22

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