掩模系统、掩模方法、曝光系统和曝光方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201310156077.3

申请日：

2013-04-28

公开(公告)号：

CN103268057A

公开(公告)日：

2013-08-28

发明(设计)人：

张继凯吴洪江黎敏万冀豫杨同华查长军

申请人：

申请人地址：

100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112

代理人：

彭瑞欣;陈源

法律状态：

公开

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2013-08-28	公开	公开
2013-09-25	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101523324829 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2013101560773 申请日:20130428
2014-12-17	授权	授权

共 50 条

[1]

掩模板、曝光系统和曝光方法 [P].

陈珍霞 ;

李凡 ;

姜妮 .

中国专利 :CN103034046A ,2013-04-10

[2]

无掩模曝光系统及无掩模曝光方法 [P].

请求不公布姓名 ;

请求不公布姓名 .

中国专利 :CN121028467A ,2025-11-28

[3]

掩模板和曝光系统 [P].

郭雷 .

中国专利 :CN117471840A ,2024-01-30

[4]

掩模曝光系统、掩模曝光方法和电子束校正方法 [P].

裵硕钟 ;

朴强浩 ;

申文圭 ;

李明秀 ;

李昊骏 .

韩国专利 :CN118011739A ,2024-05-10

[5]

无掩模曝光系统 [P].

请求不公布姓名 ;

请求不公布姓名 .

中国专利 :CN222506743U ,2025-02-18

[6]

掩模板及其制备方法、掩模板曝光系统、拼接曝光方法 [P].

朱宁 ;

缪应蒙 ;

刘德强 ;

高玉杰 ;

穆文凯 .

中国专利 :CN108051980B ,2018-05-18

[7]

光掩模板和曝光系统 [P].

李承敃 ;

范真瑞 ;

张文轩 .

中国专利 :CN105093813A ,2015-11-25

[8]

曝光系统和曝光方法 [P].

崔宏青 ;

钟德镇 .

中国专利 :CN101551600B ,2009-10-07

[9]

一种掩模板和曝光系统 [P].

罗丽平 ;

刘会双 ;

胡海琛 ;

孙增标 ;

王涛 ;

金基用 .

中国专利 :CN204925610U ,2015-12-30

[10]

曝光系统的控制方法和曝光系统 [P].

卞洪飞 ;

董帅 ;

高利军 .

中国专利 :CN112596346B ,2021-04-02

← 1 2 3 4 5 →