光掩模板和曝光系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201510580628.8

申请日：

2015-09-11

公开(公告)号：

CN105093813A

公开(公告)日：

2015-11-25

发明(设计)人：

李承敃范真瑞张文轩

申请人：

申请人地址：

100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号

IPC主分类号：

G03F138

IPC分类号：

G03F720

代理机构：

北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112

代理人：

罗瑞芝;陈源

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-09-06	授权	授权
2015-11-25	公开	公开
2015-12-23	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101638522564 IPC(主分类):G03F 1/38 专利申请号:2015105806288 申请日:20150911

共 50 条

[1]

掩模板和曝光系统 [P].

郭雷 .

中国专利 :CN117471840A ,2024-01-30

[2]

掩模板、曝光系统和曝光方法 [P].

陈珍霞 ;

李凡 ;

姜妮 .

中国专利 :CN103034046A ,2013-04-10

[3]

掩模板及其制备方法、掩模板曝光系统、拼接曝光方法 [P].

朱宁 ;

缪应蒙 ;

刘德强 ;

高玉杰 ;

穆文凯 .

中国专利 :CN108051980B ,2018-05-18

[4]

掩模系统、掩模方法、曝光系统和曝光方法 [P].

张继凯 ;

吴洪江 ;

黎敏 ;

万冀豫 ;

杨同华 ;

查长军 .

中国专利 :CN103268057A ,2013-08-28

[5]

一种掩模板和曝光系统 [P].

罗丽平 ;

刘会双 ;

胡海琛 ;

孙增标 ;

王涛 ;

金基用 .

中国专利 :CN204925610U ,2015-12-30

[6]

无掩模曝光系统 [P].

请求不公布姓名 ;

请求不公布姓名 .

中国专利 :CN222506743U ,2025-02-18

[7]

无掩模曝光系统及无掩模曝光方法 [P].

请求不公布姓名 ;

请求不公布姓名 .

中国专利 :CN121028467A ,2025-11-28

[8]

一种掩模板及其制备方法和曝光系统 [P].

罗丽平 ;

刘会双 ;

胡海琛 ;

孙增标 ;

王涛 ;

金基用 .

中国专利 :CN105093807B ,2024-01-23

[9]

一种掩模板及其制备方法和曝光系统 [P].

罗丽平 ;

刘会双 ;

胡海琛 ;

孙增标 ;

王涛 ;

金基用 .

中国专利 :CN105093807A ,2015-11-25

[10]

光罩和曝光系统 [P].

李泽尧 .

中国专利 :CN208705609U ,2019-04-05

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