一种掩模板和曝光系统

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201520719092.9

申请日：

2015-09-16

公开(公告)号：

CN204925610U

公开(公告)日：

2015-12-30

发明(设计)人：

罗丽平刘会双胡海琛孙增标王涛金基用

申请人：

申请人地址：

100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号

IPC主分类号：

G03F132

IPC分类号：

G03F720

代理机构：

北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112

代理人：

罗瑞芝;陈源

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2015-12-30	授权	授权

共 50 条

[1]

一种掩模板及其制备方法和曝光系统 [P].

罗丽平 ;

刘会双 ;

胡海琛 ;

孙增标 ;

王涛 ;

金基用 .

中国专利 :CN105093807B ,2024-01-23

[2]

一种掩模板及其制备方法和曝光系统 [P].

罗丽平 ;

刘会双 ;

胡海琛 ;

孙增标 ;

王涛 ;

金基用 .

中国专利 :CN105093807A ,2015-11-25

[3]

掩模板和曝光系统 [P].

郭雷 .

中国专利 :CN117471840A ,2024-01-30

[4]

掩模板、曝光系统和曝光方法 [P].

陈珍霞 ;

李凡 ;

姜妮 .

中国专利 :CN103034046A ,2013-04-10

[5]

光掩模板和曝光系统 [P].

李承敃 ;

范真瑞 ;

张文轩 .

中国专利 :CN105093813A ,2015-11-25

[6]

掩模板及其制备方法、掩模板曝光系统、拼接曝光方法 [P].

朱宁 ;

缪应蒙 ;

刘德强 ;

高玉杰 ;

穆文凯 .

中国专利 :CN108051980B ,2018-05-18

[7]

掩模系统、掩模方法、曝光系统和曝光方法 [P].

张继凯 ;

吴洪江 ;

黎敏 ;

万冀豫 ;

杨同华 ;

查长军 .

中国专利 :CN103268057A ,2013-08-28

[8]

无掩模曝光系统 [P].

请求不公布姓名 ;

请求不公布姓名 .

中国专利 :CN222506743U ,2025-02-18

[9]

无掩模曝光系统及无掩模曝光方法 [P].

请求不公布姓名 ;

请求不公布姓名 .

中国专利 :CN121028467A ,2025-11-28

[10]

一种曝光装置和曝光系统 [P].

马群 ;

张琨鹏 ;

章兵 .

中国专利 :CN203930324U ,2014-11-05

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