等离子体处理设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201880037158.2

申请日：

2018-07-05

公开(公告)号：

CN111096081B

公开(公告)日：

2024-04-12

发明(设计)人：

D·万德克 M·哈恩尔 K-O·施托克 L·特鲁特威格 M·里克

申请人：

奇诺格有限责任公司

申请人地址：

德国杜德施塔特

IPC主分类号：

H05H1/24

IPC分类号：

A61N1/44

代理机构：

永新专利商标代理有限公司 72002

代理人：

韩长永

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-04-12	授权	授权
2025-06-27	专利权的终止	未缴年费专利权终止IPC(主分类):H05H 1/24申请日:20180705授权公告日:20240412

共 50 条

[1]

等离子体处理设备 [P].

D·万德克 ;

M·哈恩尔 ;

K-O·施托克 ;

L·特鲁特威格 ;

M·里克 .

中国专利 :CN111096081A ,2020-05-01

[2]

等离子体处理方法和等离子体处理设备 [P].

奥村智洋 ;

佐佐木雄一朗 ;

冈下胜己 ;

金成国 ;

前嶋聪 ;

伊藤裕之 ;

中山一郎 ;

水野文二 .

中国专利 :CN101053066A ,2007-10-10

[3]

等离子体处理设备 [P].

江家玮 ;

徐朝阳 ;

廉晓芳 ;

范光伟 .

中国专利 :CN112530774A ,2021-03-19

[4]

等离子体处理设备 [P].

江家玮 ;

徐朝阳 ;

廉晓芳 ;

范光伟 .

中国专利 :CN112530774B ,2024-04-05

[5]

等离子体处理设备 [P].

S.R.库尔森 ;

F.霍珀 ;

C.E.金 .

中国专利 :CN104040678A ,2014-09-10

[6]

等离子体处理设备 [P].

田村一成 .

中国专利 :CN101500370A ,2009-08-05

[7]

等离子体处理设备 [P].

松本直树 ;

吉川润 ;

佐佐木胜 ;

加藤和行 ;

四方政史 ;

高桥慎伍 .

中国专利 :CN101505574A ,2009-08-12

[8]

等离子体处理设备 [P].

马绍铭 ;

弗拉迪米尔·纳戈尔尼 ;

D·V·德塞 ;

瑞安·M·帕库尔斯基 .

中国专利 :CN110870038B ,2020-03-06

[9]

等离子体产生装置和等离子体处理设备 [P].

杨靖 ;

刘涛 ;

乐卫平 ;

宋成 ;

张文杰 ;

谢幸光 .

中国专利 :CN118400855A ,2024-07-26

[10]

等离子体处理设备和等离子体处理方法 [P].

菅井秀郎 ;

井出哲也 ;

佐佐木厚 ;

东和文 ;

中田行彦 .

中国专利 :CN1670912A ,2005-09-21

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