聚合物、抗蚀剂组成物、及图案形成方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202311164217.1

申请日：

2023-09-11

公开(公告)号：

CN117683173A

公开(公告)日：

2024-03-12

发明(设计)人：

福岛将大铃木贵大提箸正义长谷川幸士

申请人：

信越化学工业株式会社

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

C08F220/38

IPC分类号：

G03F7/004 G03F7/039 C08F212/14 C08F220/18

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277

代理人：

刘新宇;李茂家

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-03-12	公开	公开
2024-03-29	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):C08F 220/38申请日:20230911

共 50 条

[1]

抗蚀剂组成物及图案形成方法 [P].

藤原敬之 ;

及川健一 ;

大桥正树 ;

小林知洋 .

日本专利 :CN111522198B ,2024-01-26

[2]

抗蚀剂组成物及图案形成方法 [P].

藤原敬之 ;

及川健一 ;

大桥正树 ;

小林知洋 .

中国专利 :CN111522198A ,2020-08-11

[3]

聚合物、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法 [P].

福岛将大 ;

畠山润 ;

大桥正树 ;

山平达也 .

日本专利 :CN120059017A ,2025-05-30

[4]

单体、聚合物、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法 [P].

福岛将大 .

日本专利 :CN119735511A ,2025-04-01

[5]

单体、聚合物、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法 [P].

福岛将大 .

日本专利 :CN121005642A ,2025-11-25

[6]

聚合物、化学增幅负型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法 [P].

增永惠一 ;

渡边聪 ;

船津显之 ;

福岛将大 ;

小竹正晃 ;

松泽雄太 .

日本专利 :CN120554558A ,2025-08-29

[7]

抗蚀剂组成物及图案形成方法 [P].

大桥正树 ;

片山和弘 ;

山平达也 ;

大友雄太郎 ;

大山皓介 .

日本专利 :CN118112887A ,2024-05-31

[8]

抗蚀剂组成物及图案形成方法 [P].

菊地骏 ;

草间理志 ;

半田龙之介 ;

大桥正树 .

日本专利 :CN120406047A ,2025-08-01

[9]

抗蚀剂组成物及图案形成方法 [P].

草间理志 ;

大山皓介 ;

菊地骏 ;

大桥正树 .

日本专利 :CN120779667A ,2025-10-14

[10]

抗蚀剂组成物及图案形成方法 [P].

大桥正树 ;

橘诚一郎 ;

菊地骏 ;

半田龙之介 .

日本专利 :CN118259547A ,2024-06-28

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