金属酸化物含有層を含むデバイス[ja]

被引：0

申请号：

JP20190565307

申请日：

2018-05-23

公开(公告)号：

JP2020522095A

公开(公告)日：

2020-07-27

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

H05B33/10

IPC分类号：

H10K99/00 H05B33/02 H05B33/14

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法律状态信息

共 50 条

[1]

金属酸化物含有層を含むデバイス[ja] [P].

日本专利 :JP2020522448A ,2020-07-30

[2]

溶液処理可能な金属酸化物バッファー層を含む光電子デバイス[ja] [P].

日本专利 :JP2018506857A ,2018-03-08

[3]

溶液処理可能な金属酸化物バッファー層を含む光電子デバイス[ja] [P].

日本专利 :JP6503080B2 ,2019-04-17

[4]

金属酸化物粒子を含むバルク触媒[ja] [P].

日本专利 :JP6285976B2 ,2018-02-28

[5]

金属酸化物粒子を含む分散体[ja] [P].

日本专利 :JP6227013B2 ,2017-11-08

[6]

金属酸化物粒子を含む分散体[ja] [P].

日本专利 :JPWO2015111664A1 ,2017-03-23

[7]

表面実装金属酸化物バリスタデバイス[ja] [P].

日本专利 :JP2024507178A ,2024-02-16

[8]

酸化物半導体を含むディスプレイ装置[ja] [P].

日本专利 :JP7506725B2 ,2024-06-26

[9]

流体吐出デバイスの原子層堆積酸化物層[ja] [P].

日本专利 :JP2019532842A ,2019-11-14

[10]

流体吐出デバイスの原子層堆積酸化物層[ja] [P].

CHEN ZHIZHANG ;

ROBERT A PUGLIESE ;

MOHAMMED S SHAARAWI .

日本专利 :JP2022010071A ,2022-01-14

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