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半導体基板の製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20090524497
申请日
:
2008-07-23
公开(公告)号
:
JPWO2009014144A1
公开(公告)日
:
2010-10-07
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H01L21/304
IPC分类号
:
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
半導体基板の洗浄方法、及び半導体基板の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2014077370A1
,2017-01-05
[2]
半導体装置の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2003028097A1
,2005-01-13
[3]
半導体装置及び半導体装置の製造方法[ja]
[P].
KIMURA HIROSHI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
SHINDENGEN ELECTRIC MFG
SHINDENGEN ELECTRIC MFG
KIMURA HIROSHI
;
MATSUZAKI KINSHI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
SHINDENGEN ELECTRIC MFG
SHINDENGEN ELECTRIC MFG
MATSUZAKI KINSHI
.
日本专利
:JP2023170145A
,2023-12-01
[4]
半導体装置および半導体装置の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2012169053A1
,2015-02-23
[5]
半導体基板加工用粘着テープおよび半導体装置の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6443590B1
,2018-12-26
[6]
半導体基板加工用粘着テープおよび半導体装置の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2018159418A1
,2019-03-14
[7]
洗浄組成物、半導体基板の洗浄方法、および、半導体素子の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7011098B1
,2022-01-26
[8]
単電子半導体素子の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2007091364A1
,2009-07-02
[9]
半導体酸化チタンの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6963853B1
,2021-11-10
[10]
基板の処理方法、半導体装置の製造方法、基板処理用キット[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019151001A1
,2021-01-14
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