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グラフェン・グラファイト膜を用いる半導体装置及びその製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20100518970
申请日
:
2009-06-01
公开(公告)号
:
JPWO2010001686A1
公开(公告)日
:
2011-12-15
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H01L21/268
IPC分类号
:
C01B31/02
C01B31/04
H01L21/208
H01L21/28
H01L21/288
H01L21/3205
H01L21/336
H01L23/52
H01L29/06
H01L29/16
H01L29/786
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
グラフェンの製造方法およびグラフェン[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2013038622A1
,2015-03-23
[2]
グラフェン粉体の製造方法及びその製造方法により製造されるグラフェン粉体[ja]
[P].
日本专利
:JP5725635B1
,2015-05-27
[3]
グラフェン粉体の製造方法及びその製造方法により製造されるグラフェン粉体[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2015092871A1
,2017-03-16
[4]
マンガン亜鉛フェライトの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7697624B1
,2025-06-24
[5]
光ファイバ用ガラス母材の製造方法及び光ファイバの製造方法[ja]
[P].
INOUE HIRONORI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
SUMITOMO ELECTRIC INDUSTRIES
SUMITOMO ELECTRIC INDUSTRIES
INOUE HIRONORI
;
MORITA KEISHO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
SUMITOMO ELECTRIC INDUSTRIES
SUMITOMO ELECTRIC INDUSTRIES
MORITA KEISHO
.
日本专利
:JP2024086249A
,2024-06-27
[6]
光ファイバ用ガラス母材の製造方法及び光ファイバの製造方法[ja]
[P].
INOUE HIRONORI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
SUMITOMO ELECTRIC IND LTD
SUMITOMO ELECTRIC IND LTD
INOUE HIRONORI
;
MORITA KEISHO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
SUMITOMO ELECTRIC IND LTD
SUMITOMO ELECTRIC IND LTD
MORITA KEISHO
.
日本专利
:JP2024086248A
,2024-06-27
[7]
ウルトラファインバブル液の製造方法、及びウルトラファインバブル液[ja]
[P].
日本专利
:JP2022145040A
,2022-10-03
[8]
半導体装置及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2008111199A1
,2010-06-24
[9]
光ファイバ母材の製造方法、及び光ファイバの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2014178293A1
,2017-02-23
[10]
光ファイバ母材の製造方法及びその装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2005000752A1
,2006-07-27
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