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微小構造の非対称性の測定方法ならびに測定装置、位置測定方法、位置測定装置、リソグラフィ装置およびデバイス製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20160504547
申请日
:
2014-03-06
公开(公告)号
:
JP2016519765A
公开(公告)日
:
2016-07-07
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
G01B11/00
IPC分类号
:
G03F9/00
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
微小構造の非対称性の測定方法ならびに測定装置、位置測定方法、位置測定装置、リソグラフィ装置およびデバイス製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6181284B2
,2017-08-16
[2]
微細構造の非対称性を測定する方法及び装置、位置測定方法、位置測定装置、リソグラフィ装置及びデバイス製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2015528584A
,2015-09-28
[3]
ミクロ構造の非対称性を測定する方法および装置、位置測定方法、位置測定装置、リソグラフィ装置およびデバイス製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2016502134A
,2016-01-21
[4]
位置測定装置、位置測定方法、リソグラフィ装置およびデバイス製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5992103B2
,2016-09-14
[5]
位置測定装置、位置測定方法、リソグラフィ装置およびデバイス製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2015525883A
,2015-09-07
[6]
微細構造の非対称性を測定する方法及び装置、位置測定方法、位置測定装置、リソグラフィ装置及びデバイス製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6120967B2
,2017-04-26
[7]
ミクロ構造の非対称性を測定する方法および装置、位置測定方法、位置測定装置、リソグラフィ装置およびデバイス製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5992110B2
,2016-09-14
[8]
位置測定装置、位置測定方法、リソグラフィ装置及びデバイス製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2015535954A
,2015-12-17
[9]
位置測定装置、位置測定方法、リソグラフィ装置及びデバイス製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6095786B2
,2017-03-15
[10]
測定方法、測定装置、リソグラフィ装置、及びデバイス製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2017528757A
,2017-09-28
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