リチウムビス（フルオロスルホニル）イミドの生成方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20170568463

申请日：

2016-02-04

公开(公告)号：

JP2018520981A

公开(公告)日：

2018-08-02

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IPC主分类号：

C01B21/086

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共 50 条

[1]

リチウムビス（フルオロスルホニル）イミド塩の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2021505510A ,2021-02-18

[2]

ビス（フルオロスルホニル）イミド塩の精製[ja] [P].

日本专利 :JP2023541873A ,2023-10-04

[3]

ビス（フルオロスルホニル）イミドの生成のフルオロ硫酸アンモニウム副生成物の処理のための統合されたプロセス[ja] [P].

日本专利 :JP2024504275A ,2024-01-31

[4]

ビス（フルオロスルホニル）イミドを生成するための統合されたプロセス[ja] [P].

日本专利 :JP2023507342A ,2023-02-22

[5]

精製リチウムビス（フルオロスルホニル）イミド（ＬＩＦＳＩ）生成物、粗ＬＩＦＳＩの精製方法、および精製ＬＩＦＳＩ生成物の使用[ja] [P].

日本专利 :JP7475343B2 ,2024-04-26

[6]

精製リチウムビス（フルオロスルホニル）イミド（ＬＩＦＳＩ）生成物、粗ＬＩＦＳＩの精製方法、および精製ＬＩＦＳＩ生成物の使用[ja] [P].

日本专利 :JP2022507459A ,2022-01-18

[7]

水素ビス（クロロスルホニル）イミドの気相でのフッ素化方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025522601A ,2025-07-15

[8]

アルカリスルホニルイミド塩を製造する方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025531915A ,2025-09-25

[9]

３−メチルスルホニルプロピオニトリルを調製するプロセス[ja] [P].

日本专利 :JP2015511582A ,2015-04-20

[10]

５−トリフルオロメチル−４−トリフルオロメチルスルホニル−２−イソキサゾリン誘導体およびその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2014024752A1 ,2016-07-25

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