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ビス(フルオロスルホニル)イミドの生成のフルオロ硫酸アンモニウム副生成物の処理のための統合されたプロセス[ja]
被引:0
申请号
:
JP20230539853
申请日
:
2022-01-04
公开(公告)号
:
JP2024504275A
公开(公告)日
:
2024-01-31
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C01C1/246
IPC分类号
:
C01B7/19
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
ビス(フルオロスルホニル)イミドを生成するための統合されたプロセス[ja]
[P].
日本专利
:JP2023507342A
,2023-02-22
[2]
ビス(フルオロスルホニル)イミドの精製[ja]
[P].
日本专利
:JP2022529638A
,2022-06-23
[3]
リチウムビス(フルオロスルホニル)イミドの生成方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2018520981A
,2018-08-02
[4]
ビス(フルオロスルホニル)イミド塩の精製[ja]
[P].
日本专利
:JP2023541873A
,2023-10-04
[5]
リチウムビス(フルオロスルホニル)イミドの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2024546120A
,2024-12-17
[6]
フルオロスルホニルイミド塩およびフルオロスルホニルイミド塩の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2011065502A1
,2013-04-18
[7]
ハイドロジェンビス(フルオロスルホニル)イミドの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2019503956A
,2019-02-14
[8]
リチウムビス(フルオロスルホニル)イミド塩の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2021505510A
,2021-02-18
[9]
リチウムビス(フルオロスルホニル)イミド塩及びその使用[ja]
[P].
日本专利
:JP2019521057A
,2019-07-25
[10]
アクリル酸の生成のためのプロセス[ja]
[P].
日本专利
:JP2018506548A
,2018-03-08
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