含水バラ物処理方法および含水バラ物への凝集剤添加装置[ja]

被引：0

申请号：

JP20160511396

申请日：

2015-04-01

公开(公告)号：

JPWO2015151524A1

公开(公告)日：

2017-04-13

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

C02F11/00

IPC分类号：

B63B25/04 B65G67/60 B65G69/20

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法律状态信息

共 33 条

[21]

不純物添加装置、不純物添加方法及び半導体素子の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2015189875A1 ,2017-04-20

[22]

不純物添加装置、不純物添加方法及び半導体素子の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP6132072B2 ,2017-05-24

[23]

還元剤添加装置及びその制御方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2010035355A1 ,2012-02-16

[24]

バインダー添加方法、バインダー添加装置、混練機及び混練方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2010114152A1 ,2012-10-11

[25]

水処理システムおよびその方法[ja] [P].

日本专利 :JP2019529095A ,2019-10-17

[26]

汚泥処理システム、制御装置、汚泥処理方法およびプログラム[ja] [P].

KIKUCHI KAI ;

SHIINA TAKEHITO .

日本专利 :JP2025126473A ,2025-08-29

[27]

汚泥処理システム、制御装置、汚泥処理方法およびプログラム[ja] [P].

KIKUCHI KAI .

日本专利 :JP2024157340A ,2024-11-07

[28]

スライムモニタリング装置、及びスライムモニタリング方法、並びにスライム除去剤添加装置、及びスライム除去剤添加方法[ja] [P].

日本专利 :JP6079401B2 ,2017-02-15

[29]

薬品添加装置、流体の処理方法、流体製品の製造方法及び製品製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP7428203B2 ,2024-02-06

[30]

炭化処理設備および炭化製品の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2023024348A ,2023-02-16

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