高活性及びオフターゲット削減のためのｓｉＲＮＡ構造[ja]

被引：0

申请号：

JP20180530704

申请日：

2016-12-12

公开(公告)号：

JP2018537104A

公开(公告)日：

2018-12-20

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

C12N15/113

IPC分类号：

A61K9/127 A61K31/713 A61K35/76 A61K48/00 A61P35/00 A61P43/00 C07H21/04 C12N5/10 C12N15/63

代理机构：

代理人：

法律状态：

国省代码：

引用

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共 50 条

[1]

高活性及びオフターゲット削減のためのｓｉＲＮＡ構造[ja] [P].

日本专利 :JP6457704B2 ,2019-01-23

[2]

オフターゲット活性が低減された修飾ｓｉＲＮＡ[ja] [P].

日本专利 :JP2023536320A ,2023-08-24

[3]

ターゲット及びターゲットの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2021521335A ,2021-08-26

[4]

ターゲット及びターゲットの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2021521334A ,2021-08-26

[5]

スパッタターゲット、及びスパッタターゲットの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2020511598A ,2020-04-16

[6]

オフターゲット効果を回避するための方法及び組成物[ja] [P].

日本专利 :JP2024535445A ,2024-09-30

[7]

ターゲット組立体およびターゲット組立体の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP7376742B1 ,2023-11-08

[8]

ｓｉＲＮＡ細胞内送達のための脂質膜構造体[ja] [P].

日本专利 :JPWO2015178343A1 ,2017-04-20

[9]

スパッタリングターゲット及び該ターゲットを用いた薄膜の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2014208282A1 ,2017-02-23

[10]

ＬＬＺＯガーネットのフッ素化のための方法[ja] [P].

日本专利 :JP2023537172A ,2023-08-31

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