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オフターゲット活性が低減された修飾siRNA[ja]
被引:0
申请号
:
JP20230507494
申请日
:
2021-08-04
公开(公告)号
:
JP2023536320A
公开(公告)日
:
2023-08-24
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C12N15/113
IPC分类号
:
A61K31/713
A61K47/54
A61K48/00
A61P43/00
C07D207/42
C07D209/08
C07D239/47
C07D239/54
C07D473/00
C07D473/16
C07D473/18
C07D473/34
C07F9/6561
C07H1/00
C07H21/02
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
高活性及びオフターゲット削減のためのsiRNA構造[ja]
[P].
日本专利
:JP2018537104A
,2018-12-20
[2]
改善された複合ゲッター[ja]
[P].
日本专利
:JP2015502839A
,2015-01-29
[3]
収縮が低減された硬質ポリウレタンフォーム[ja]
[P].
日本专利
:JP2015529264A
,2015-10-05
[4]
N末端が修飾されたFGF21化合物[ja]
[P].
日本专利
:JP6069198B2
,2017-02-01
[5]
トリアジン含有の修飾されたイオン性液体[ja]
[P].
日本专利
:JP2020527836A
,2020-09-10
[6]
修飾されたセルロース系繊維[ja]
[P].
日本专利
:JP2022535775A
,2022-08-10
[7]
修飾されたポリアリールエーテルケトン[ja]
[P].
日本专利
:JP2020532615A
,2020-11-12
[8]
アルデヒド放出が低減されたポリウレタン[ja]
[P].
日本专利
:JP2019517615A
,2019-06-24
[9]
結晶成長が低減された殺真菌剤製剤[ja]
[P].
日本专利
:JP2022526518A
,2022-05-25
[10]
温度依存が低減されたフォトクロミックインデノ縮合ナフトピラン化合物[ja]
[P].
日本专利
:JP7130780B2
,2022-09-05
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