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低欠陥化グラフェン系炭素材料及びその製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20180554994
申请日
:
2017-12-04
公开(公告)号
:
JPWO2018105570A1
公开(公告)日
:
2019-10-24
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C01B32/192
IPC分类号
:
C01B32/198
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
低欠陥化グラフェン系炭素材料及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6997460B2
,2022-01-17
[2]
低欠陥化炭素材料の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7403250B2
,2023-12-22
[3]
低欠陥化炭素材料の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7312625B2
,2023-07-21
[4]
低欠陥化含窒素炭素材料の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7178045B2
,2022-11-25
[5]
炭素材料及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2009038193A1
,2011-01-13
[6]
炭素材料及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5950400B2
,2016-07-13
[7]
炭素材料及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2010137592A1
,2012-11-15
[8]
炭素材料及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7092296B2
,2022-06-28
[9]
炭素材料及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5629681B2
,2014-11-26
[10]
炭素材料及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5613662B2
,2014-10-29
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