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HTO含有水溶液中のHTO濃度を低減する方法及び装置[ja]
被引:0
申请号
:
JP20190521240
申请日
:
2018-05-29
公开(公告)号
:
JPWO2018221531A1
公开(公告)日
:
2020-04-16
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
G21F9/06
IPC分类号
:
G21F9/02
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
HTO含有水溶液中のHTO濃度を低減する方法及び装置[ja]
[P].
日本专利
:JP7591777B2
,2024-11-29
[2]
金属含有水溶液を生成する方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2025509667A
,2025-04-11
[3]
高濃度のHF水溶液を製造する方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6193864B2
,2017-09-06
[4]
高濃度で錯化剤を含有する水溶液[ja]
[P].
日本专利
:JP6427562B2
,2018-11-21
[5]
高濃度のHF水溶液を製造する方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2014531392A
,2014-11-27
[6]
高濃度のHF水溶液を製造する方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6415656B2
,2018-10-31
[7]
高濃度で錯化剤を含有する水溶液[ja]
[P].
日本专利
:JP2016522857A
,2016-08-04
[8]
高濃度で錯化剤を含有する水溶液[ja]
[P].
日本专利
:JP2016525585A
,2016-08-25
[9]
水溶液中の電解活性種濃度を測定及び制御する方法及び装置[ja]
[P].
日本专利
:JP2015516073A
,2015-06-04
[10]
水溶液中の電解活性種濃度を測定及び制御する方法及び装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6022040B2
,2016-11-09
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