HTO含有水溶液中のHTO濃度を低減する方法及び装置[ja]

被引:0
申请号
JP20190521240
申请日
2018-05-29
公开(公告)号
JPWO2018221531A1
公开(公告)日
2020-04-16
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
G21F9/06
IPC分类号
G21F9/02
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[2]
金属含有水溶液を生成する方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2025509667A ,2025-04-11
[3]
高濃度のHF水溶液を製造する方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6193864B2 ,2017-09-06
[4]
高濃度で錯化剤を含有する水溶液[ja] [P]. 
日本专利 :JP6427562B2 ,2018-11-21
[5]
高濃度のHF水溶液を製造する方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2014531392A ,2014-11-27
[6]
高濃度のHF水溶液を製造する方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6415656B2 ,2018-10-31
[7]
高濃度で錯化剤を含有する水溶液[ja] [P]. 
日本专利 :JP2016522857A ,2016-08-04
[8]
高濃度で錯化剤を含有する水溶液[ja] [P]. 
日本专利 :JP2016525585A ,2016-08-25