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水溶液中の電解活性種濃度を測定及び制御する方法及び装置[ja]
被引:0
申请号
:
JP20150510340
申请日
:
2013-04-26
公开(公告)号
:
JP2015516073A
公开(公告)日
:
2015-06-04
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
G01N27/42
IPC分类号
:
G01N27/30
G01N27/416
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
水溶液中の電解活性種濃度を測定及び制御する方法及び装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6022040B2
,2016-11-09
[2]
HTO含有水溶液中のHTO濃度を低減する方法及び装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2018221531A1
,2020-04-16
[3]
HTO含有水溶液中のHTO濃度を低減する方法及び装置[ja]
[P].
日本专利
:JP7591777B2
,2024-11-29
[4]
水溶液の濃縮装置及び方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6059999B2
,2017-01-11
[5]
水溶液の濃縮装置及び濃縮方法[ja]
[P].
KAWAKATSU TAKAHIRO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
KURITA WATER IND LTD
KURITA WATER IND LTD
KAWAKATSU TAKAHIRO
;
KUMAGAI KAZUO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
KURITA WATER IND LTD
KURITA WATER IND LTD
KUMAGAI KAZUO
;
MATSUYAMA HIDETO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
KURITA WATER IND LTD
KURITA WATER IND LTD
MATSUYAMA HIDETO
.
日本专利
:JP2024124112A
,2024-09-12
[6]
電磁波を用いた水溶液の濃度測定方法およびその装置[ja]
[P].
日本专利
:JP7505740B2
,2024-06-25
[7]
高濃度のHF水溶液を製造する方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6193864B2
,2017-09-06
[8]
高濃度のHF水溶液を製造する方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2014531392A
,2014-11-27
[9]
高濃度のHF水溶液を製造する方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6415656B2
,2018-10-31
[10]
粒子の分散液、水溶液中で粒子を分散させる方法、及び水溶液中で粒子の表面電位を制御させる方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7724467B2
,2025-08-18
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