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高周波モジュールおよびその製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20170534433
申请日
:
2016-08-08
公开(公告)号
:
JP6512298B2
公开(公告)日
:
2019-05-15
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H01L23/28
IPC分类号
:
B23K26/364
B23K26/38
H01L21/301
H01L21/56
H01L23/00
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
高周波モジュールの製造方法および高周波モジュール[ja]
[P].
日本专利
:JP7047904B2
,2022-04-05
[2]
高周波モジュールの製造方法および高周波モジュール[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019216299A1
,2021-02-12
[3]
高周波モジュールおよびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6182969B2
,2017-08-23
[4]
高周波モジュールおよびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2017002775A1
,2018-04-12
[5]
高周波モジュールおよびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6891965B2
,2021-06-18
[6]
高周波モジュールおよびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019045088A1
,2020-07-27
[7]
高周波モジュールおよびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2017026430A1
,2018-06-21
[8]
高周波モジュールおよびその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6414639B2
,2018-10-31
[9]
高周波モジュール及び高周波モジュールの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7120336B2
,2022-08-17
[10]
高周波モジュール及び高周波モジュールの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6536283B2
,2019-07-03
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