高周波モジュールの製造方法および高周波モジュール[ja]

被引:0
申请号
JP20200518293
申请日
2019-05-07
公开(公告)号
JPWO2019216299A1
公开(公告)日
2021-02-12
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
H05K3/28
IPC分类号
H01L23/00 H01L23/28 H05K1/02 H05K9/00
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[4]
[6]
高周波基板および高周波モジュール[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2010013721A1 ,2012-01-12
[7]
高周波基板および高周波モジュール[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2009119443A1 ,2011-07-21
[8]
高周波モジュールおよび高周波部品[ja] [P]. 
日本专利 :JP5700170B2 ,2015-04-15
[9]
高周波モジュールおよび高周波部品[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2013125363A1 ,2015-07-30
[10]
高周波モジュール[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2013129543A1 ,2015-07-30