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高周波モジュールの製造方法および高周波モジュール[ja]
被引:0
申请号
:
JP20200518293
申请日
:
2019-05-07
公开(公告)号
:
JPWO2019216299A1
公开(公告)日
:
2021-02-12
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H05K3/28
IPC分类号
:
H01L23/00
H01L23/28
H05K1/02
H05K9/00
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
高周波モジュールの製造方法および高周波モジュール[ja]
[P].
日本专利
:JP7047904B2
,2022-04-05
[2]
高周波モジュール及び高周波モジュールの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7120336B2
,2022-08-17
[3]
高周波モジュール及び高周波モジュールの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6536283B2
,2019-07-03
[4]
高周波モジュール及び高周波モジュールの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2020166238A1
,2021-11-25
[5]
高周波モジュール及び高周波モジュールの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7632744B2
,2025-02-19
[6]
高周波基板および高周波モジュール[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2010013721A1
,2012-01-12
[7]
高周波基板および高周波モジュール[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2009119443A1
,2011-07-21
[8]
高周波モジュールおよび高周波部品[ja]
[P].
日本专利
:JP5700170B2
,2015-04-15
[9]
高周波モジュールおよび高周波部品[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2013125363A1
,2015-07-30
[10]
高周波モジュール[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2013129543A1
,2015-07-30
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