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成膜方法および成膜装置[ja]
被引:0
申请号
:
JP20030522998
申请日
:
2002-08-30
公开(公告)号
:
JPWO2003019645A1
公开(公告)日
:
2004-12-16
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H01L21/312
IPC分类号
:
C23C16/30
C23C16/40
C23C16/42
C23C16/452
H01L21/314
H01L21/316
H01L21/318
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
成膜方法および成膜装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2014024406A1
,2016-07-25
[2]
成膜方法および成膜装置[ja]
[P].
WATANABE YOSHIMASA
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO ELECTRON LTD
TOKYO ELECTRON LTD
WATANABE YOSHIMASA
;
UMEZAWA KOTA
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO ELECTRON LTD
TOKYO ELECTRON LTD
UMEZAWA KOTA
;
ISHII KATSUTOSHI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO ELECTRON LTD
TOKYO ELECTRON LTD
ISHII KATSUTOSHI
.
日本专利
:JP2025066851A
,2025-04-24
[3]
酸化膜成膜方法および酸化膜成膜装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2013038484A1
,2015-03-23
[4]
成膜方法および成膜装置[ja]
[P].
日本专利
:JP7584286B2
,2024-11-15
[5]
成膜方法および成膜装置[ja]
[P].
日本专利
:JP7195190B2
,2022-12-23
[6]
成膜方法および成膜装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6211941B2
,2017-10-11
[7]
成膜方法および成膜装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6017361B2
,2016-10-26
[8]
成膜方法、および成膜装置[ja]
[P].
KUBO KAZUMI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO ELECTRON LTD
TOKYO ELECTRON LTD
KUBO KAZUMI
.
日本专利
:JP2025021970A
,2025-02-14
[9]
成膜装置および成膜方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7292110B2
,2023-06-16
[10]
成膜装置および成膜方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7097740B2
,2022-07-08
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