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酸化膜成膜方法および酸化膜成膜装置[ja]
被引:0
申请号
:
JP20130533367
申请日
:
2011-09-13
公开(公告)号
:
JPWO2013038484A1
公开(公告)日
:
2015-03-23
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C01B13/34
IPC分类号
:
C01B13/14
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
酸化膜成膜方法および酸化膜成膜装置[ja]
[P].
日本专利
:JP5841156B2
,2016-01-13
[2]
金属酸化膜の成膜方法、金属酸化膜および金属酸化膜の成膜装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2010122629A1
,2012-10-22
[3]
金属酸化膜の成膜方法、金属酸化膜および金属酸化膜の成膜装置[ja]
[P].
日本专利
:JP5652768B2
,2015-01-14
[4]
金属酸化膜の成膜方法、金属酸化膜および金属酸化膜の成膜装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2011027425A1
,2013-01-31
[5]
金属酸化膜の成膜方法および金属酸化膜の成膜装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2010035313A1
,2012-02-16
[6]
金属酸化膜の成膜装置、金属酸化膜の成膜方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5614558B2
,2014-10-29
[7]
金属酸化膜の成膜装置、金属酸化膜の製造方法および金属酸化膜[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2011151889A1
,2013-07-25
[8]
成膜方法および成膜装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2014024406A1
,2016-07-25
[9]
成膜方法および成膜装置[ja]
[P].
WATANABE YOSHIMASA
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO ELECTRON LTD
TOKYO ELECTRON LTD
WATANABE YOSHIMASA
;
UMEZAWA KOTA
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO ELECTRON LTD
TOKYO ELECTRON LTD
UMEZAWA KOTA
;
ISHII KATSUTOSHI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO ELECTRON LTD
TOKYO ELECTRON LTD
ISHII KATSUTOSHI
.
日本专利
:JP2025066851A
,2025-04-24
[10]
成膜方法および成膜装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2003019645A1
,2004-12-16
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