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フォトマスク及びその製造方法[ja]

被引：0
申请号：
JP20210174507
申请日：
2021-10-26
公开(公告)号：
JP2022017386A
公开(公告)日：
2022-01-25
发明(设计)人：
MORIYAMA KUMIKO YAMADA SHINGO
申请人：
SK ELECTRONICS CO LTD
申请人地址：
IPC主分类号：
G03F1/32
IPC分类号：
C23C14/06
代理机构：
代理人：
法律状态：
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
共 50 条
[1]
フォトマスク及びその製造方法[ja] [P]. 
OJIMA SHOJIRO ;
YAMADA SHINGO ;
MORIYAMA KUMIKO .
日本专利 :JP2022009498A ,2022-01-14
[2]
フォトマスクブランク、フォトマスクの製造方法、及び表示装置の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2022136193A ,2022-09-15
[3]
フォトマスクブランクおよびフォトマスクの製造方法ならびにクロム系材料膜[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2012070209A1 ,2014-05-19
[4]
フォトニック結晶およびその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2006103938A1 ,2008-09-04
[5]
フォトニックデバイス、フォトニックデバイスの動作方法、及びフォトニックデバイスの製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2021521436A ,2021-08-26
[6]
フォトクロミック光学物品の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2008001875A1 ,2009-11-26
[7]
反射型マスクブランク、反射型マスク、反射型マスクブランクの製造方法、及び反射型マスクの製造方法[ja] [P]. 
AKAGI DAIJIRO ;
OKATO TAKESHI ;
SASAKI KENICHI ;
ISHIKAWA ICHIRO ;
SUZUKI NORIYUKI .
日本专利 :JP2024135147A ,2024-10-04
[8]
反射型マスクブランク、反射型マスク、反射型マスクブランクの製造方法、及び反射型マスクの製造方法[ja] [P]. 
AKAGI DAIJIRO ;
OKATO TAKESHI ;
SASAKI KENICHI ;
ISHIKAWA ICHIRO ;
SUZUKI NORIYUKI .
日本专利 :JP2024135499A ,2024-10-04
[9]
マスターバッチ及びその製造方法[ja] [P]. 
NAKAYAMA YUMI ;
TAGAMI HANAE ;
OMURA YUKI ;
FURUTA TATSURO .
日本专利 :JP2025099089A ,2025-07-03
[10]
光学フィルム及びその製造方法[ja] [P]. 
GONDA TAKASHI ;
SUZUKI KAZUHIRO ;
SUZUKI HIDEKI .
日本专利 :JP2024090003A ,2024-07-04
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