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半導体装置の製造方法及び半導体装置[ja]
被引:0
申请号
:
JP20070512479
申请日
:
2006-03-24
公开(公告)号
:
JPWO2006109506A1
公开(公告)日
:
2008-10-23
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H01L25/065
IPC分类号
:
H01L21/52
H01L21/60
H01L25/07
H01L25/18
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
半導体装置の製造方法および半導体装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2015005275A1
,2017-03-02
[2]
半導体装置の製造方法、基板処理装置及び半導体装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2011093203A1
,2013-06-06
[3]
半導体装置の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2008007732A1
,2009-12-10
[4]
半導体装置の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2007069299A1
,2009-05-21
[5]
半導体装置及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2008105535A1
,2010-06-03
[6]
液状半導体用接着剤組成物、半導体装置及び半導体装置の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2011058998A1
,2013-04-04
[7]
半導体用フィルム状接着剤、半導体装置の製造方法及び半導体装置[ja]
[P].
AKIYOSHI TOSHIYASU
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
SHOWA DENKO MAT CO LTD
AKIYOSHI TOSHIYASU
;
SUGAWARA TAKEHIRO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
SHOWA DENKO MAT CO LTD
SUGAWARA TAKEHIRO
.
日本专利
:JP2022186809A
,2022-12-15
[8]
半導体加工用粘着シート及び半導体装置の製造方法[ja]
[P].
UMEZAWA MASAHIRO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
LINTEC CORP
LINTEC CORP
UMEZAWA MASAHIRO
;
ADACHI KAZUMASA
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
LINTEC CORP
LINTEC CORP
ADACHI KAZUMASA
.
日本专利
:JP2024035414A
,2024-03-14
[9]
半導体接合保護用ガラス組成物、半導体装置の製造方法及び半導体装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2012160704A1
,2014-07-31
[10]
半導体接合保護用ガラス組成物、半導体装置の製造方法及び半導体装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2012160631A1
,2014-07-31
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