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磁性薄膜積層構造体の堆積方法、磁性薄膜積層構造体およびマイクロインダクタンス装置[ja]
被引:0
申请号
:
JP20190522894
申请日
:
2017-10-25
公开(公告)号
:
JP2020501341A
公开(公告)日
:
2020-01-16
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H01F10/30
IPC分类号
:
B32B7/025
C23C14/06
H01F10/12
H01F17/04
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 13 条
[1]
磁性薄膜積層構造体の堆積方法、磁性薄膜積層構造体およびマイクロインダクタンス装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6901557B2
,2021-07-14
[2]
積層磁性薄膜、積層磁性薄膜の製造方法、および磁気メモリ装置[ja]
[P].
日本专利
:JP6758617B2
,2020-09-23
[3]
磁性薄膜堆積チャンバおよび薄膜堆積装置[ja]
[P].
日本专利
:JP2019533767A
,2019-11-21
[4]
磁性薄膜堆積チャンバおよび薄膜堆積装置[ja]
[P].
日本专利
:JP7030804B2
,2022-03-07
[5]
軟磁性薄膜、薄膜インダクタおよび磁性製品[ja]
[P].
日本专利
:JP7106919B2
,2022-07-27
[6]
磁性薄膜積層体の製造方法及びそれに用いる製造装置[ja]
[P].
日本专利
:JP2025176526A
,2025-12-04
[7]
バイアス磁界制御方法、磁性薄膜堆積方法、チャンバ及び装置[ja]
[P].
日本专利
:JP7218456B2
,2023-02-06
[8]
バイアス磁界制御方法、磁性薄膜堆積方法、チャンバ及び装置[ja]
[P].
日本专利
:JP2022525259A
,2022-05-11
[9]
グラニュラ磁性薄膜及びその製造方法,積層磁性膜,磁性部品,電子機器[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2002058086A1
,2004-05-27
[10]
Mn系強磁性薄膜およびその製造方法、ならびにMn系強磁性薄膜を有する磁気トンネル接合素子[ja]
[P].
日本专利
:JP6985708B2
,2021-12-22
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