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積層磁性薄膜、積層磁性薄膜の製造方法、および磁気メモリ装置[ja]

被引：0
申请号：
JP20160049981
申请日：
2016-03-14
公开(公告)号：
JP6758617B2
公开(公告)日：
2020-09-23
发明(设计)人：
申请人：
申请人地址：
IPC主分类号：
H01L29/82
IPC分类号：
H01L43/08 H01L43/10 H01L43/12 H10B20/00 H10B99/00
代理机构：
代理人：
法律状态：
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
共 39 条
[1]
強磁性薄膜積層体[ja] [P]. 
日本专利 :JP7788227B2 ,2025-12-18
[2]
磁性薄膜積層構造体の堆積方法、磁性薄膜積層構造体およびマイクロインダクタンス装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP6901557B2 ,2021-07-14
[3]
磁性薄膜積層構造体の堆積方法、磁性薄膜積層構造体およびマイクロインダクタンス装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP2020501341A ,2020-01-16
[4]
磁性薄膜およびその製造方法[ja] [P]. 
SATO TAKESHI ;
MIURA ATSUSHI ;
KIMURA TAISHI ;
KOSAKA SATORU .
日本专利 :JP2024113214A ,2024-08-22
[5]
磁性薄膜およびその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP7501550B2 ,2024-06-18
[6]
磁性薄膜およびその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP7740279B2 ,2025-09-17
[7]
磁性薄膜堆積チャンバおよび薄膜堆積装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP2019533767A ,2019-11-21
[8]
磁性薄膜積層体の製造方法及びそれに用いる製造装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP2025176526A ,2025-12-04
[9]
磁性薄膜堆積チャンバおよび薄膜堆積装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP7030804B2 ,2022-03-07
[10]
グラニュラ磁性薄膜及びその製造方法，積層磁性膜，磁性部品，電子機器[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2002058086A1 ,2004-05-27
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