磁性薄膜およびその製造方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20220006371

申请日：

2022-01-19

公开(公告)号：

JP7501550B2

公开(公告)日：

2024-06-18

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

H01F10/16

IPC分类号：

C22C19/07 C22C30/00 C22F1/10 C23C14/14 C23C14/34 H01F41/18 H01F41/22 H01L29/82 H10N50/01 H10N50/10

代理机构：

代理人：

法律状态：

国省代码：

引用

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共 45 条

[1]

磁性薄膜およびその製造方法[ja] [P].

SATO TAKESHI ;

MIURA ATSUSHI ;

KIMURA TAISHI ;

KOSAKA SATORU .

日本专利 :JP2024113214A ,2024-08-22

[2]

磁性薄膜およびその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP7740279B2 ,2025-09-17

[3]

Ｍｎ系強磁性薄膜の製造方法およびＭｎ系強磁性薄膜[ja] [P].

日本专利 :JP6870850B2 ,2021-05-12

[4]

高周波用磁性薄膜、その作製方法および磁気素子[ja] [P].

日本专利 :JPWO2005027154A1 ,2007-11-08

[5]

積層磁性薄膜、積層磁性薄膜の製造方法、および磁気メモリ装置[ja] [P].

日本专利 :JP6758617B2 ,2020-09-23

[6]

超高周波強磁性薄膜とその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP6618298B2 ,2019-12-18

[7]

軟磁性薄膜、薄膜インダクタおよび磁性製品[ja] [P].

日本专利 :JP7106919B2 ,2022-07-27

[8]

磁性薄膜積層体の製造方法及びそれに用いる製造装置[ja] [P].

日本专利 :JP2025176526A ,2025-12-04

[9]

Ｍｎ系強磁性薄膜およびその製造方法、ならびにＭｎ系強磁性薄膜を有する磁気トンネル接合素子[ja] [P].

日本专利 :JP6985708B2 ,2021-12-22

[10]

グラニュラ磁性薄膜及びその製造方法，積層磁性膜，磁性部品，電子機器[ja] [P].

日本专利 :JPWO2002058086A1 ,2004-05-27

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