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画像処理装置および画像処理方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20090527636
申请日
:
2009-01-28
公开(公告)号
:
JPWO2009113231A1
公开(公告)日
:
2011-07-21
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
G06T7/20
IPC分类号
:
G06T7/60
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
基板処理装置及び基板処理方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2022154555A
,2022-10-13
[2]
情報処理装置、情報処理方法および情報処理プログラム[ja]
[P].
日本专利
:JP2025143705A
,2025-10-02
[3]
プラズマ処理装置、プラズマ処理方法、および被処理基板を備える素子の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2010090127A1
,2012-08-09
[4]
プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置[ja]
[P].
日本专利
:JP2025010857A
,2025-01-23
[5]
プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2011102083A1
,2013-06-17
[6]
プラズマ処理装置[ja]
[P].
YAGUCHI TETSUMA
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO ELECTRON LTD
TOKYO ELECTRON LTD
YAGUCHI TETSUMA
.
日本专利
:JP2024115405A
,2024-08-26
[7]
プラズマ処理装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2012073449A1
,2014-05-19
[8]
プラズマ処理装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2014167626A1
,2017-02-16
[9]
プラズマ処理装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2020121588A1
,2021-02-15
[10]
プラズマ処理装置[ja]
[P].
日本专利
:JP7043684B1
,2022-03-29
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