統合されたエピタキシャル金属電極[ja]

被引：0

申请号：

JP20190515652

申请日：

2017-09-21

公开(公告)号：

JP2019535134A

公开(公告)日：

2019-12-05

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

H01L21/28

IPC分类号：

H01L21/20

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法律状态信息

共 50 条

[1]

集積化エピタキシャル金属電極[ja] [P].

日本专利 :JP2022517537A ,2022-03-09

[2]

エピタキシャルシリコンチャネルの成長[ja] [P].

日本专利 :JP2025516792A ,2025-05-30

[3]

エピタキシャルシリコンチャネルの成長[ja] [P].

日本专利 :JP2025516794A ,2025-05-30

[4]

統合型エピタキシ及び前洗浄システム[ja] [P].

日本专利 :JP2024510872A ,2024-03-12

[5]

キャパシタンスを高めた金属−酸化物−金属（ＭＯＭ）キャパシタ[ja] [P].

日本专利 :JP6224737B2 ,2017-11-01

[6]

キャパシタンスを高めた金属−酸化物−金属（ＭＯＭ）キャパシタ[ja] [P].

日本专利 :JP2016511548A ,2016-04-14

[7]

一体化されたエピタキシと予洗浄システム[ja] [P].

日本专利 :JP2020532142A ,2020-11-05

[8]

一体化されたエピタキシと予洗浄システム[ja] [P].

LARA HAWRYLCHAK ;

SCHUBERT S CHU ;

TUSHAR MANDREKAR ;

ERROL C SANCHEZ ;

LO KIN PONG .

日本专利 :JP2022084597A ,2022-06-07

[9]

高選択性酸化物除去および高温汚染物質除去と統合されたエピタキシシステム[ja] [P].

日本专利 :JP7046162B2 ,2022-04-01

[10]

高選択性酸化物除去および高温汚染物質除去と統合されたエピタキシシステム[ja] [P].

日本专利 :JP2020532140A ,2020-11-05

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