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高選択性酸化物除去および高温汚染物質除去と統合されたエピタキシシステム[ja]

被引：0
申请号：
JP20200512399
申请日：
2018-08-13
公开(公告)号：
JP2020532140A
公开(公告)日：
2020-11-05
发明(设计)人：
申请人：
申请人地址：
IPC主分类号：
H01L21/205
IPC分类号：
C23C16/02 C23C16/24 C23C16/44 C23C16/50 H01L21/3065
代理机构：
代理人：
法律状态：
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
共 50 条
[1]
高選択性酸化物除去および高温汚染物質除去と統合されたエピタキシシステム[ja] [P]. 
日本专利 :JP7046162B2 ,2022-04-01
[2]
汚染物質除去のための再生可能システム[ja] [P]. 
日本专利 :JP2025500267A ,2025-01-09
[3]
窒素酸化物および硫黄酸化物除去システム、窒素酸化物および硫黄酸化物除去方法、および二酸化炭素回収システム[ja] [P]. 
日本专利 :JP5881498B2 ,2016-03-09
[4]
統合型エピタキシ及び前洗浄システム[ja] [P]. 
日本专利 :JP2024510872A ,2024-03-12
[5]
統合されたエピタキシャル金属電極[ja] [P]. 
日本专利 :JP2019535134A ,2019-12-05
[6]
一体化されたエピタキシと予洗浄システム[ja] [P]. 
日本专利 :JP2020532142A ,2020-11-05
[7]
一体化されたエピタキシと予洗浄システム[ja] [P]. 
LARA HAWRYLCHAK ;
SCHUBERT S CHU ;
TUSHAR MANDREKAR ;
ERROL C SANCHEZ ;
LO KIN PONG .
日本专利 :JP2022084597A ,2022-06-07
[8]
改善されたディッシングおよびパターン選択性を有する酸化物および窒化物選択性のＣＭＰ組成物[ja] [P]. 
日本专利 :JP7041135B2 ,2022-03-23
[9]
改善されたディッシングおよびパターン選択性を有する酸化物および窒化物選択性のＣＭＰ組成物[ja] [P]. 
日本专利 :JP2020500419A ,2020-01-09
[10]
酸化物および窒化物に選択的な高除去速度および低欠陥のＣＭＰ組成物[ja] [P]. 
日本专利 :JP6082097B2 ,2017-02-15
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