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フルオロスルホニルイミド化合物の製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20150089340
申请日
:
2015-04-24
公开(公告)号
:
JP6691740B2
公开(公告)日
:
2020-05-13
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C01B21/093
IPC分类号
:
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
フルオロスルホニルイミド化合物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6645855B2
,2020-02-14
[2]
フルオロスルホニルイミド化合物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6577317B2
,2019-09-18
[3]
ビス(フルオロスルホニル)イミド化合物及びその製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7266092B2
,2023-04-27
[4]
フルオロビニルアミド化合物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6863361B2
,2021-04-21
[5]
含フッ素スルホニルイミド化合物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5730513B2
,2015-06-10
[6]
ビス(フルオロスルホニル)イミドアニオン化合物の製造方法およびイオン対化合物[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2010010613A1
,2012-01-05
[7]
ジスルホニルフロリド化合物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2006106960A1
,2008-09-18
[8]
ビス(フルオロスルホニル)イミドの合成[ja]
[P].
日本专利
:JP2015531744A
,2015-11-05
[9]
含フッ素スルホニルフルオリド化合物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2002044138A1
,2004-04-02
[10]
含フッ素スルホニルフルオリド化合物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2005003062A1
,2006-08-10
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