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含フッ素スルホニルフルオリド化合物の製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20020546508
申请日
:
2001-11-28
公开(公告)号
:
JPWO2002044138A1
公开(公告)日
:
2004-04-02
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C07C303/22
IPC分类号
:
C07C51/09
C07C51/60
C07C59/135
C07C309/82
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
含フッ素スルホニルフルオリド化合物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2005003062A1
,2006-08-10
[2]
含フッ素スルホニルイミド化合物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5730513B2
,2015-06-10
[3]
フルオロスルホニルイミド化合物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6645855B2
,2020-02-14
[4]
フルオロスルホニルイミド化合物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6691740B2
,2020-05-13
[5]
フルオロスルホニルイミド化合物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6577317B2
,2019-09-18
[6]
ジスルホニルフロリド化合物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2006106960A1
,2008-09-18
[7]
フッ素含有スルホニルアミド化合物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2018034145A1
,2019-06-13
[8]
フッ素含有スルホニルアミド化合物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6718511B2
,2020-07-08
[9]
含フッ素スルフィド化合物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019189716A1
,2021-05-27
[10]
含フッ素スルフィド化合物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7208976B2
,2023-01-19
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