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フッ素含有スルホニルアミド化合物の製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20180534327
申请日
:
2017-08-01
公开(公告)号
:
JP6718511B2
公开(公告)日
:
2020-07-08
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C01B21/093
IPC分类号
:
C01B21/084
H01M8/1016
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
フッ素含有スルホニルアミド化合物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2018034145A1
,2019-06-13
[2]
含フッ素スルホニルイミド化合物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5730513B2
,2015-06-10
[3]
含フッ素スルホンアミド化合物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2022141492A
,2022-09-29
[4]
含フッ素スルホニルフルオリド化合物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2005003062A1
,2006-08-10
[5]
含フッ素スルホニルフルオリド化合物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2002044138A1
,2004-04-02
[6]
フルオロスルホニルイミド化合物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6645855B2
,2020-02-14
[7]
フルオロスルホニルイミド化合物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6691740B2
,2020-05-13
[8]
フルオロスルホニルイミド化合物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6577317B2
,2019-09-18
[9]
スルホンアミド化合物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7032903B2
,2022-03-09
[10]
スルホンアミド含有インドール化合物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2005026119A1
,2007-11-08
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