原子層堆積リソグラフィ[ja]

被引：0

申请号：

JP20140558744

申请日：

2013-01-24

公开(公告)号：

JP2015515641A

公开(公告)日：

2015-05-28

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

G03F7/004

IPC分类号：

C23C16/01 C23C16/455 G03F7/38 G03F7/40 H01L21/027

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法律状态信息

共 50 条

[1]

自己組織化リソグラフィ[ja] [P].

日本专利 :JP2024505843A ,2024-02-08

[2]

原子層堆積による多層耐プラズマ性コーティング[ja] [P].

WU XIAOWEI ;

DAVID FENWICK ;

SUN JENNIFER Y ;

ZHAN GUODONG .

日本专利 :JP2022046471A ,2022-03-23

[3]

原子層堆積法で堆積させた耐浸食性金属フッ化物コーティング[ja] [P].

日本专利 :JP3224084U ,2019-11-21

[4]

原子層堆積法で堆積させた耐浸食性金属フッ化物コーティング[ja] [P].

WU XIAOWEI ;

SUN JENNIFER Y ;

MICHAEL R RICE .

日本专利 :JP2024116282A ,2024-08-27

[5]

原子層堆積法で堆積させた耐浸食性金属酸化物コーティング[ja] [P].

日本专利 :JP3224064U ,2019-11-21

[6]

ガスバリア性積層フィルム[ja] [P].

日本专利 :JPWO2013122103A1 ,2015-05-18

[7]

積層フィルム構造体[ja] [P].

日本专利 :JP2024518889A ,2024-05-08

[8]

ステレオリソグラフィ方法および組成物[ja] [P].

日本专利 :JP2018501191A ,2018-01-18

[9]

リフィテグラストの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2021526531A ,2021-10-07

[10]

フィルム及びその積層体[ja] [P].

日本专利 :JP2025133518A ,2025-09-11

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