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原子層堆積による多層耐プラズマ性コーティング[ja]
被引:0
申请号
:
JP20210195192
申请日
:
2021-12-01
公开(公告)号
:
JP2022046471A
公开(公告)日
:
2022-03-23
发明(设计)人
:
WU XIAOWEI
DAVID FENWICK
SUN JENNIFER Y
ZHAN GUODONG
申请人
:
APPLIED MATERIALS INC
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C23C16/40
IPC分类号
:
C23C28/04
H01L21/3065
H01L21/31
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
耐プラズマ多層コーティングおよびそれを調製する方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2022505703A
,2022-01-14
[2]
原子層堆積リソグラフィ[ja]
[P].
日本专利
:JP2015515641A
,2015-05-28
[3]
原子層堆積法で堆積させた耐浸食性金属酸化物コーティング[ja]
[P].
日本专利
:JP3224064U
,2019-11-21
[4]
原子層堆積法で堆積させた耐浸食性金属フッ化物コーティング[ja]
[P].
日本专利
:JP3224084U
,2019-11-21
[5]
原子層堆積法で堆積させた耐浸食性金属フッ化物コーティング[ja]
[P].
WU XIAOWEI
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
APPLIED MATERIALS INC
APPLIED MATERIALS INC
WU XIAOWEI
;
SUN JENNIFER Y
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
APPLIED MATERIALS INC
APPLIED MATERIALS INC
SUN JENNIFER Y
;
MICHAEL R RICE
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
APPLIED MATERIALS INC
APPLIED MATERIALS INC
MICHAEL R RICE
.
日本专利
:JP2024116282A
,2024-08-27
[6]
静電クランプによるリモートプラズマ堆積[ja]
[P].
日本专利
:JP2024538526A
,2024-10-23
[7]
多層PVDコーティングを有する切削工具[ja]
[P].
日本专利
:JP2018501408A
,2018-01-18
[8]
光輝コート層を含む多層コーティングの生成方法及び前記方法で得られる多層コーティング[ja]
[P].
日本专利
:JP2022543368A
,2022-10-12
[9]
プラズマ耐食性希土類酸化物系薄膜コーティング[ja]
[P].
日本专利
:JP2016528380A
,2016-09-15
[10]
耐食性コーティング[ja]
[P].
日本专利
:JP2023539701A
,2023-09-15
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