原子層堆積による多層耐プラズマ性コーティング[ja]

被引:0
申请号
JP20210195192
申请日
2021-12-01
公开(公告)号
JP2022046471A
公开(公告)日
2022-03-23
发明(设计)人
WU XIAOWEI DAVID FENWICK SUN JENNIFER Y ZHAN GUODONG
申请人
APPLIED MATERIALS INC
申请人地址
IPC主分类号
C23C16/40
IPC分类号
C23C28/04 H01L21/3065 H01L21/31
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[2]
原子層堆積リソグラフィ[ja] [P]. 
日本专利 :JP2015515641A ,2015-05-28
[5]
原子層堆積法で堆積させた耐浸食性金属フッ化物コーティング[ja] [P]. 
WU XIAOWEI ;
SUN JENNIFER Y ;
MICHAEL R RICE .
日本专利 :JP2024116282A ,2024-08-27
[6]
静電クランプによるリモートプラズマ堆積[ja] [P]. 
日本专利 :JP2024538526A ,2024-10-23
[7]
多層PVDコーティングを有する切削工具[ja] [P]. 
日本专利 :JP2018501408A ,2018-01-18
[9]
[10]
耐食性コーティング[ja] [P]. 
日本专利 :JP2023539701A ,2023-09-15