高純度硫酸銅及びその製造方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20050513607

申请日：

2004-07-28

公开(公告)号：

JPWO2005023715A1

公开(公告)日：

2007-11-22

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

C01G3/10

IPC分类号：

C01G3/00

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法律状态信息

共 50 条

[1]

超高純度銅及びその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2005073434A1 ,2008-04-24

[2]

高純度銅及び電解による高純度銅の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2010038641A1 ,2012-03-01

[3]

高純度錫及びその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2017069027A1 ,2017-12-28

[4]

高純度Ｉｎ及びその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2015064201A1 ,2017-03-09

[5]

高純度スルホン酸銅水溶液及びその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2011102276A1 ,2013-06-17

[6]

高純度錫又は錫合金及び高純度錫の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2007004394A1 ,2009-01-22

[7]

高強度高導電銅合金圧延板及びその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2010079708A1 ,2012-06-21

[8]

高強度高導電銅合金圧延板及びその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2010079707A1 ,2012-06-21

[9]

高純度のＳｉＣ結晶体の製造方法[ja] [P].

KIM GABOK ;

KANG BYUNGCHANG ;

PARK BYUNGHYUN ;

JEON JUNKI ;

JEONG CHANGWON ;

CHYUN SEUNGAN .

日本专利 :JP2025031927A ,2025-03-07

[10]

高純度苛性カリの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2007018203A1 ,2009-02-19

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