複数のケイ素化合物の選択的なモニタリング[ja]

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申请号
JP20210167038
申请日
2021-10-11
公开(公告)号
JP7229315B2
公开(公告)日
2023-02-27
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
G01N27/416
IPC分类号
G01N27/26 H01L21/306
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[1]
複数のケイ素化合物の選択的なモニタリング[ja] [P]. 
EUGENE SHALYT ;
LIANG GUANG .
日本专利 :JP2022027752A ,2022-02-14
[2]
硫化水素の選択的除去のためのアミン化合物[ja] [P]. 
日本专利 :JP2018531242A ,2018-10-25
[4]
含酸素化合物の選択的脱炭酸のための方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2023533210A ,2023-08-02
[5]
3Dドラムのための選択的ケイ素化合物堆積[ja] [P]. 
日本专利 :JP2024530167A ,2024-08-16
[6]
3Dドラムのための選択的ケイ素化合物堆積[ja] [P]. 
日本专利 :JP7772908B2 ,2025-11-18
[7]
選択的なPYY化合物及びその使用[ja] [P]. 
日本专利 :JP2017505284A ,2017-02-16
[8]
選択的なPYY化合物及びその使用[ja] [P]. 
日本专利 :JP6602760B2 ,2019-11-06
[9]
ケイ素化合物の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2015087903A1 ,2017-03-16
[10]
ケイ素化合物の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6547629B2 ,2019-07-24