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複数のケイ素化合物の選択的なモニタリング[ja]
被引:0
申请号
:
JP20210167038
申请日
:
2021-10-11
公开(公告)号
:
JP7229315B2
公开(公告)日
:
2023-02-27
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
G01N27/416
IPC分类号
:
G01N27/26
H01L21/306
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
複数のケイ素化合物の選択的なモニタリング[ja]
[P].
EUGENE SHALYT
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
ECI TECH INC
EUGENE SHALYT
;
LIANG GUANG
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
ECI TECH INC
LIANG GUANG
.
日本专利
:JP2022027752A
,2022-02-14
[2]
硫化水素の選択的除去のためのアミン化合物[ja]
[P].
日本专利
:JP2018531242A
,2018-10-25
[3]
複合タングステン酸化物微粒子の表面へのケイ素化合物膜の被覆方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2025131444A
,2025-09-09
[4]
含酸素化合物の選択的脱炭酸のための方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2023533210A
,2023-08-02
[5]
3Dドラムのための選択的ケイ素化合物堆積[ja]
[P].
日本专利
:JP2024530167A
,2024-08-16
[6]
3Dドラムのための選択的ケイ素化合物堆積[ja]
[P].
日本专利
:JP7772908B2
,2025-11-18
[7]
選択的なPYY化合物及びその使用[ja]
[P].
日本专利
:JP2017505284A
,2017-02-16
[8]
選択的なPYY化合物及びその使用[ja]
[P].
日本专利
:JP6602760B2
,2019-11-06
[9]
ケイ素化合物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2015087903A1
,2017-03-16
[10]
ケイ素化合物の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6547629B2
,2019-07-24
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