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露光装置、デバイス製造方法、および露光方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20080510832
申请日
:
2007-03-22
公开(公告)号
:
JPWO2007119466A1
公开(公告)日
:
2009-08-27
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H01L21/027
IPC分类号
:
G02B19/00
G03F7/20
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
投影露光装置、投影露光方法およびデバイス製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2005031824A1
,2006-12-07
[2]
露光装置およびデバイス製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2013088551A1
,2015-04-27
[3]
露光装置及び露光方法、デバイス製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2005081293A1
,2007-10-25
[4]
露光方法、露光装置、及びデバイス製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2006080427A1
,2008-06-19
[5]
露光装置、露光方法及びデバイス製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2005020299A1
,2006-10-19
[6]
露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2006059720A1
,2008-06-05
[7]
露光方法、露光装置及びデバイス製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2005106930A1
,2008-03-21
[8]
投影光学系、露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5877965B2
,2016-03-08
[9]
投影光学系、露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5621806B2
,2014-11-12
[10]
露光装置、露光方法、デバイスの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2005038888A1
,2007-02-01
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