磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20140554628

申请日：

2013-12-31

公开(公告)号：

JPWO2014104377A1

公开(公告)日：

2017-01-19

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

G11B5/84

IPC分类号：

C03C19/00

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共 50 条

[1]

磁気ディスク媒体及びその製造方法並びに磁気記録装置[ja] [P].

日本专利 :JPWO2003019540A1 ,2004-12-16

[2]

磁気ディスク用アルミニウム合金基板及びその製造方法、ならびに、当該磁気ディスク用アルミニウム合金基板を用いた磁気ディスク[ja] [P].

日本专利 :JP6492216B1 ,2019-03-27

[3]

磁気ディスク用アルミニウム合金基板及びその製造方法、ならびに、当該磁気ディスク用アルミニウム合金基板を用いた磁気ディスク[ja] [P].

日本专利 :JP6427290B1 ,2018-11-21

[4]

磁気ディスク用アルミニウム合金基板及びその製造方法、ならびに、当該磁気ディスク用アルミニウム合金基板を用いた磁気ディスク[ja] [P].

日本专利 :JP6402229B1 ,2018-10-10

[5]

磁気デバイス及び磁気記憶デバイス[ja] [P].

NOMOTO RINA ;

SUGIYAMA HIDEYUKI ;

WATANABE DAISUKE ;

NGUYEN VIET BAO .

日本专利 :JP2024123438A ,2024-09-12

[6]

磁気デバイス及び磁気記憶デバイス[ja] [P].

NOMOTO RINA ;

KANAYA HIROYUKI ;

MUTO YUSUKE ;

IWASAKI TAKAYUKI .

日本专利 :JP2024031380A ,2024-03-07

[7]

ＬＣデバイス、ＬＣデバイスの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2018110054A1 ,2019-01-17

[8]

ハードディスク用平坦化膜形成組成物及びそれを用いたハードディスクの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2011132640A1 ,2013-07-18

[9]

磁気センサ及びその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2007119569A1 ,2009-08-27

[10]

磁気メモリ及びその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2010026861A1 ,2012-02-02

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