高純度カルコゲナイド材料及びその製造方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20200530205

申请日：

2019-07-09

公开(公告)号：

JPWO2020013191A1

公开(公告)日：

2021-07-15

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

C01G19/00

IPC分类号：

C01G17/00 C30B29/46

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共 50 条

[1]

カルコゲナイド膜およびその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2009044769A1 ,2011-02-10

[2]

カルコゲナイド膜およびその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2009063950A1 ,2011-03-31

[3]

ハイドロゲル及びその製造方法[ja] [P].

FUKATSU ARISA ;

TAKAHASHI MASAHIDE ;

OKADA KENJI ;

KURISU SARI .

日本专利 :JP2024015996A ,2024-02-06

[4]

カルコゲナイト化合物のナノ粒子蛍光体及びその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2007032179A1 ,2009-03-19

[5]

高純度電極材料の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2015511366A ,2015-04-16

[6]

ハイドロゲルおよびその製造方法[ja] [P].

AKIYAMA YOSHIKATSU ;

OSAWA SHIGEHITO ;

MASAMUNE MASARU ;

KOBAYASHI ETSUKO ;

AKAGI YUKI ;

MURAGAKI YOSHIHIRO ;

OTANI TORU .

日本专利 :JP2025040983A ,2025-03-26

[7]

含カルコゲン縮環多環式有機材料及びその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2005087780A1 ,2008-01-24

[8]

高純度２−ナフチルアセトニトリル及びその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP6915189B1 ,2021-08-04

[9]

高純度２−ナフチルアセトニトリル及びその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2021085468A1 ,2021-11-25

[10]

洗浄液及び高純度イソプロピルアルコールの製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2020071307A1 ,2021-02-15

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