粉末状化合物を噴射することによりガスを処理する方法及び装置[ja]

被引：0

申请号：

JP20150563092

申请日：

2014-06-20

公开(公告)号：

JP6059828B2

公开(公告)日：

2017-01-11

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

B01D53/50

IPC分类号：

B01D53/14 B01D53/68 B01D53/83

代理机构：

代理人：

法律状态：

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日

法律状态

法律状态信息

共 50 条

[1]

粉末状化合物を噴射することによりガスを処理する方法及び装置[ja] [P].

日本专利 :JP2016530981A ,2016-10-06

[2]

基板を処理する方法、及び基板を処理する装置[ja] [P].

WADA MAKOTO ;

YAMAZAKI KAZUYOSHI ;

MOROZUMI YUICHIRO .

日本专利 :JP2025058659A ,2025-04-09

[3]

感染を処置する化合物及び方法[ja] [P].

日本专利 :JP6297674B2 ,2018-03-20

[4]

感染を処置する化合物及び方法[ja] [P].

日本专利 :JP2016523822A ,2016-08-12

[5]

癌を処置する化合物および方法[ja] [P].

日本专利 :JP2023545274A ,2023-10-27

[6]

疼痛に関係する化合物を識別することに関する方法及び使用並びに痛覚過敏を診断する方法[ja] [P].

日本专利 :JP5939994B2 ,2016-06-29

[7]

受精を阻害する化合物を同定する方法[ja] [P].

日本专利 :JP6108338B2 ,2017-04-05

[8]

ＥＲストレスを刺激することによりアポトーシスを誘導するための方法および化合物[ja] [P].

日本专利 :JP6203679B2 ,2017-09-27

[9]

フッ素化合物を含有する固体廃棄物を処理する方法及びシステム[ja] [P].

日本专利 :JP2018535095A ,2018-11-29

[10]

ケイ素化合物を含有する排ガスを浄化するための排ガス処理触媒[ja] [P].

日本专利 :JP5918718B2 ,2016-05-18

← 1 2 3 4 5 →