新規なアミノシリルアミン化合物、その製造方法およびこれを用いたシリコン含有薄膜[ja]

被引：0

申请号：

JP20160518275

申请日：

2014-06-05

公开(公告)号：

JP2016526051A

公开(公告)日：

2016-09-01

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

C07F7/10

IPC分类号：

C23C16/42

代理机构：

代理人：

法律状态：

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日

法律状态

法律状态信息

共 50 条

[1]

新規なアミノシリルアミン化合物、その製造方法およびこれを用いたシリコン含有薄膜[ja] [P].

日本专利 :JP6567131B2 ,2019-08-28

[2]

新規なアミノシリルアミン化合物、その製造方法およびこれを用いたシリコン含有薄膜[ja] [P].

日本专利 :JP6366698B2 ,2018-08-01

[3]

新規なアミノシリルアミン化合物、その製造方法、及びそれを用いたシリコン含有薄膜[ja] [P].

日本专利 :JP6018125B2 ,2016-11-02

[4]

ビス（アミノシリル）アルキルアミン化合物を含むシリコン含有薄膜蒸着用組成物、およびそれを用いたシリコン含有薄膜の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP6876145B2 ,2021-05-26

[5]

ビス（アミノシリル）アルキルアミン化合物を含むシリコン含有薄膜蒸着用組成物、およびそれを用いたシリコン含有薄膜の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2020516067A ,2020-05-28

[6]

新規なトリシリルアミン誘導体およびその製造方法、並びにそれを用いたシリコン含有薄膜[ja] [P].

日本专利 :JP2017507909A ,2017-03-23

[7]

シリルアミン化合物、それを含むシリコン含有薄膜蒸着用組成物、およびそれを用いたシリコン含有薄膜の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2020515573A ,2020-05-28

[8]

シリルアミン化合物、それを含むシリコン含有薄膜蒸着用組成物、およびそれを用いたシリコン含有薄膜の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP6900503B2 ,2021-07-07

[9]

ジシリルアミン化合物を含むシリコン含有薄膜蒸着用組成物、およびそれを用いたシリコン含有薄膜の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP7025447B2 ,2022-02-24

[10]

ジシリルアミン化合物を含むシリコン含有薄膜蒸着用組成物、およびそれを用いたシリコン含有薄膜の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2020517825A ,2020-06-18

← 1 2 3 4 5 →