シリルアミン化合物、それを含むシリコン含有薄膜蒸着用組成物、およびそれを用いたシリコン含有薄膜の製造方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20190553084

申请日：

2018-03-28

公开(公告)号：

JP2020515573A

公开(公告)日：

2020-05-28

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

C07F7/02

IPC分类号：

C23C16/42 C23C16/455 C23C16/50 H01L21/316 H01L21/318 H01L29/786 H01L51/05 H01L51/40

代理机构：

代理人：

法律状态：

国省代码：

引用

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共 50 条

[1]

シリルアミン化合物、それを含むシリコン含有薄膜蒸着用組成物、およびそれを用いたシリコン含有薄膜の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP6900503B2 ,2021-07-07

[2]

ジシリルアミン化合物を含むシリコン含有薄膜蒸着用組成物、およびそれを用いたシリコン含有薄膜の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP7025447B2 ,2022-02-24

[3]

ジシリルアミン化合物を含むシリコン含有薄膜蒸着用組成物、およびそれを用いたシリコン含有薄膜の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2020517825A ,2020-06-18

[4]

シリコン含有薄膜蒸着用組成物およびそれを用いたシリコン含有薄膜の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2021504949A ,2021-02-15

[5]

シリコン含有薄膜蒸着用組成物およびそれを用いたシリコン含有薄膜の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2020516062A ,2020-05-28

[6]

アミノアルコキシジシラザン化合物、それを含むシリコン含有薄膜蒸着用組成物、およびそれを用いたシリコン含有薄膜の製造方法[ja] [P].

RYU JIHO ;

SON SEUNG ;

CHO JUN-HEE ;

PARK GUN JOO ;

KIM SUNG GI ;

CHO YU JIN ;

LIM HAENG DON .

日本专利 :JP2025092454A ,2025-06-19

[7]

ビス（アミノシリル）アルキルアミン化合物を含むシリコン含有薄膜蒸着用組成物、およびそれを用いたシリコン含有薄膜の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP6876145B2 ,2021-05-26

[8]

ビス（アミノシリル）アルキルアミン化合物を含むシリコン含有薄膜蒸着用組成物、およびそれを用いたシリコン含有薄膜の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2020516067A ,2020-05-28

[9]

ジシリルアミン化合物、その製造方法、およびそれを含むシリコン含有薄膜蒸着用組成物[ja] [P].

日本专利 :JP7025448B2 ,2022-02-24

[10]

ジシリルアミン化合物、その製造方法、およびそれを含むシリコン含有薄膜蒸着用組成物[ja] [P].

日本专利 :JP2020517651A ,2020-06-18

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