アミノアルコキシジシラザン化合物、それを含むシリコン含有薄膜蒸着用組成物、およびそれを用いたシリコン含有薄膜の製造方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20240209337

申请日：

2024-12-02

公开(公告)号：

JP2025092454A

公开(公告)日：

2025-06-19

发明(设计)人：

RYU JIHO SON SEUNG CHO JUN-HEE PARK GUN JOO KIM SUNG GI CHO YU JIN LIM HAENG DON

申请人：

DNF CO LTD

申请人地址：

IPC主分类号：

C07F7/18

IPC分类号：

H01L21/316 H01L21/318

代理机构：

代理人：

法律状态：

国省代码：

引用

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共 50 条

[1]

ジシリルアミン化合物を含むシリコン含有薄膜蒸着用組成物、およびそれを用いたシリコン含有薄膜の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP7025447B2 ,2022-02-24

[2]

ジシリルアミン化合物を含むシリコン含有薄膜蒸着用組成物、およびそれを用いたシリコン含有薄膜の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2020517825A ,2020-06-18

[3]

シリルアミン化合物、それを含むシリコン含有薄膜蒸着用組成物、およびそれを用いたシリコン含有薄膜の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2020515573A ,2020-05-28

[4]

シリルアミン化合物、それを含むシリコン含有薄膜蒸着用組成物、およびそれを用いたシリコン含有薄膜の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP6900503B2 ,2021-07-07

[5]

ビス（アミノシリル）アルキルアミン化合物を含むシリコン含有薄膜蒸着用組成物、およびそれを用いたシリコン含有薄膜の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP6876145B2 ,2021-05-26

[6]

ビス（アミノシリル）アルキルアミン化合物を含むシリコン含有薄膜蒸着用組成物、およびそれを用いたシリコン含有薄膜の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2020516067A ,2020-05-28

[7]

シリコン含有薄膜蒸着用組成物およびそれを用いたシリコン含有薄膜の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2021504949A ,2021-02-15

[8]

シリコン含有薄膜蒸着用組成物およびそれを用いたシリコン含有薄膜の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2020516062A ,2020-05-28

[9]

ジシリルアミン化合物、その製造方法、およびそれを含むシリコン含有薄膜蒸着用組成物[ja] [P].

日本专利 :JP7025448B2 ,2022-02-24

[10]

ジシリルアミン化合物、その製造方法、およびそれを含むシリコン含有薄膜蒸着用組成物[ja] [P].

日本专利 :JP2020517651A ,2020-06-18

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